德國納米壓印光刻膠

簡要描述：高分辨率：支持＜100 nm 結(jié)構(gòu)壓印（如mr-NIL212FC可實現(xiàn)200nm柱陣列）。
量產(chǎn)適配：
UV-NIL：室溫低壓（＜100 mbar），適合大面積和連續(xù)生產(chǎn)（R2R）。
T-NIL：熱塑性/熱固性可選，平衡效率與穩(wěn)定性。
工藝靈活性：
可搭配 LOR 光刻膠實現(xiàn)金屬納米結(jié)構(gòu)剝離（Lift-off）。
通過 SiPOL 硅含量樹脂實現(xiàn)圖案放大，用于深槽刻蝕。

產(chǎn)品型號：mr-NIL212FC
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2025-07-02
訪問量：531

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光刻膠

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詳細(xì)介紹

納米壓印光刻 (NIL) 解決方案——高性能光刻膠，助力納米制造革命

——來自德國 micro resist technology，納米壓印光刻材料的行業(yè)先驅(qū)

核心優(yōu)勢

? Excellence的薄膜質(zhì)量 | ? 高保真圖案復(fù)制 | ? 優(yōu)異的干法刻蝕性能
? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業(yè)級安全標(biāo)準(zhǔn)（ISO 9001 & 14001）

應(yīng)用領(lǐng)域：

l光子學(xué)（超表面、光柵、AR/VR）

l下一代電子器件（納米線、MEMS）

l生命科學(xué)與傳感器（微流控芯片、生物傳感器）

明星產(chǎn)品系列

1. UV-NIL 光刻膠

產(chǎn)品型號	核心特性	適用場景
mr-NIL210	專為 PDMS 類柔性印章優(yōu)化，極薄殘膠控制（<10nm），高均勻性	柔性基底、曲面壓印、快速量產(chǎn)
mr-NIL212FC	兼容低強(qiáng)度光源（<40>2（SiO?），適合精密金屬蝕刻	納米電子、金屬納米結(jié)構(gòu)制造
mr-NIL200	自粘附配方，無需底涂，專為硬質(zhì)印章（石英/OrmoStamp®）設(shè)計	高精度光學(xué)元件、硬質(zhì)基底壓印
mr-UVCuF26SF	溶劑型噴墨專用，低自發(fā)熒光，生物相容性佳	生物芯片、醫(yī)療器件

2. 熱壓印（T-NIL）光刻膠

3. 創(chuàng)新工藝方案

NIL + 剝離工藝：結(jié)合 mr-NIL212FC/LOR 實現(xiàn)復(fù)雜金屬納米結(jié)構(gòu)（如 200nm 金屬網(wǎng)格）。

NIL + 深度刻蝕：通過含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模（SiO?）實現(xiàn)高深寬比結(jié)構(gòu)放大。

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德國納米壓印光刻膠

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2.

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